當前位置:河南銘創(chuàng)電爐工業(yè)有限公司>>管式爐>>立式管式爐>> MC-SKZL-18高溫立式管式爐
一、核心結構
爐體:雙層風冷 / 水冷爐殼,外殼溫度<60℃,安全防燙;爐膛采用高純氧化鋁纖維,輕質保溫、蓄熱少。
爐管(核心):垂直貫穿爐膛,兩端密封法蘭,材質按需選:
石英管:≤1200℃,透明可視、化學惰性;
剛玉管(99 氧化鋁):1300–1600℃,耐高溫、耐酸堿;
不銹鋼管:≤1000℃,適用于氫氣還原、金屬退火。
加熱系統(tǒng):加熱元件分溫區(qū)布置:
鐵鉻鋁絲:≤1100℃;
硅碳棒:1200–1300℃(通用);
硅鉬棒:1500–1650℃(高溫型);
支持單 / 雙 / 三溫區(qū)獨立控溫,溫場均勻性 ±1–5℃。
溫控系統(tǒng):觸屏 PID 程序控制,精度 ±1℃,支持 30–50 段升降溫曲線;具備超溫、斷偶、漏電、氣壓超限報警,可電腦聯(lián)機導出數(shù)據(jù)。
氣路 / 真空系統(tǒng):KF 密封法蘭,標配浮子流量計、壓力表、進出氣閥;可選機械泵(低真空 - 0.1MPa)、分子泵(高真空 10?3Pa)、混氣柜、防爆模塊(通 H?)。
安全防護:開門斷電、超溫報警、壓力保護、漏電保護,全程安全聯(lián)鎖。
二、工作原理
三、核心優(yōu)勢
溫場均勻:垂直結構減少熱對流干擾,溫差小,適合精密工藝。
空間高效:立式占地小,適配實驗室與緊湊生產線。
能效更優(yōu):熱量向上聚集,熱損失少,空載能耗比臥式低 10%–15%。
工藝適配強:可通氣氛 / 抽真空,兼容 CVD、晶體生長、粉體處理等特殊工藝。
操作便捷:頂部裝樣、底部出料,適配環(huán)狀 / 片狀 / 扁平工件擺放。
四、高溫立式管式爐技術參數(shù)(常規(guī)參考)
額定溫度:1000℃/1200℃/1600℃/1800℃(可選)。
控溫精度:±1℃,溫區(qū)均勻性 ±1–5℃。
升溫速率:10–30℃/min(推薦≤10℃/min,防熱沖擊)。
爐管規(guī)格:直徑 φ25–φ200mm,長度 500–2000mm(可定制)。
真空度:低真空 - 0.1MPa,高真空 10?3–10??Pa。
氣氛類型:空氣、Ar、N?、H?、O?、CH?等。



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